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 一、真空爐熱處理用途

真空爐熱處理適用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、CVD實(shí)驗(yàn)、物質(zhì)成分測(cè)量等。

二、真空爐熱處理特點(diǎn)

1、加熱元件360度均布，爐溫均勻性高，冷室監(jiān)控標(biāo)配。

2、該設(shè)備分熱室和冷室，生產(chǎn)效率高，使用成本低。

3、淬火油槽安裝攪拌器（可調(diào)速），工件變形小，冷卻均勻性高，操作簡(jiǎn)捷，編程工藝可多步輸入，    機(jī)械動(dòng)作穩(wěn)定，手動(dòng)/自動(dòng)控制，故障自動(dòng)報(bào)警/顯示。